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參考消息

大動作!中興被禁后,“中國芯”迎來重大突破

2018-05-22 15:41:02 來源:參考消息網 責任編輯:平悅

核心提示:日前,多臺阿斯麥光刻機運入國內芯片制造企業,5月19日長江存儲迎來了自己的首臺光刻機,5月21日華力集成電路建設和營運的12英寸先進生產線建設項目(華虹六廠)實現首臺工藝設備——光刻機搬入,中芯國際訂購的最先進EUV光刻機在2019年初也將交付……

參考消息網5月22日報道 5月19日,長江存儲終于盼來了自己的首臺光刻機。當天中午,這臺價值7200萬美元、比黃金還金貴的設備,運抵了武漢天河機場。這臺來自全球最大的芯片設備制造商——荷蘭阿斯麥公司(ASML)的大家伙的到來,被外界看做中國芯片技術的重要突破。

好消息不止一個。就在幾天前,據《日經亞洲評論》15日援引消息人士的話稱,中國芯片加工企業中芯國際(SMIC)也與同一家企業——荷蘭阿斯麥公司訂購了其首臺最先進的EUV(極紫外線)光刻機,價值1.2億美元。消息稱,這臺幾乎相當于中芯國際去年全部凈利潤的設備,將于2019年初交付。

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5月19日,長江存儲首臺光刻機運抵武漢天河機場。

光刻機為何物?

光刻機為何物?為何如此金貴?

香港《明報》5月22日報道稱,光刻機(又稱曝光機)是生產大規模集成電路的核心設備,其作用是掃描曝光芯片晶圓,刻蝕集成電路。制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,世界上只有少數廠家掌握。因此光刻機的價格昂貴,通常在3000萬至5億美元不等。目前,雖然尼康、佳能等對手都在勉力競爭,但是自飛利浦獨立的阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。精度愈高的光刻機,能生產出納米尺寸愈小、功能更強大的芯片。

世界最新最先進的兩代高端光刻機領域,即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機,全部由阿斯麥掌握核心技術。報道稱,小于5納米的芯片晶圓,目前只能用EUV光刻機生產。三星電子和臺積電目前正競爭生產7納米工藝技術芯片,這兩家都訂購了阿斯麥公司的EUV光刻機。目前,蘋果iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器芯片,采用的是臺積電10納米工藝技術,而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技術。

由此可知,擁有光刻機對芯片工藝的實現有著決定性的影響。

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荷蘭阿斯麥公司廠區。(法新社)

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